高纯贵金属靶材，是指在物理气相沉积（PVD）工艺中，作为溅射源使用的、由纯度极高的贵金属及其合金（如金、银、铂、钯、铑、钌、铱等）制成的固体材料。这些靶材的关键特性在于其极高的金属纯度（通常达到99.99%即4N或更高，如5N、6N甚至7N）和精密的内部微观结构。它们在真空环境下，通过高能粒子轰击后，将靶材表面的原子逐个溅射出来，形成薄膜沉积在基板上，广泛应用于对薄膜性能、均匀性和可靠性有极高要求的尖端科技领域。
据QYResearch调研团队最新报告"全球高纯贵金属靶材市场报告2025-2031"显示，预计2031年全球高纯贵金属靶材市场规模将达到8.8亿美元，未来几年年复合增长率CAGR为9.3%。
图00002.全球高纯贵金属靶材市场前10强生产商排名及市场占有率（基于2024年调研数据；目前最新数据以本公司最新调研数据为准）
来源：QYResearch 材料研究中心。行业处于不断变动之中，最新数据请联系QYResearch咨询。
根据QYResearch头部企业研究中心调研，全球范围内高纯贵金属靶材生产商主要包括Materion、Solar Applied Materials、Tanaka Precious Metals、FURAYA Metals、Umicore、Angstrom Sciences、GRIKIN、ULVAC、KJLC、Sumitomo Chemical等。2024年，全球前十强厂商占有大约51.0%的市场份额。
图00003.高纯贵金属靶材，全球市场规模，按产品类型细分，金靶材处于主导地位
来源：QYResearch材料研究中心
就产品类型而言，目前金靶材是最主要的细分产品，占据大约61.7%的份额。
图00004.
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